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科林研發乾式光阻技術 實現28奈米間距高解析圖案化 - MSNNewtalk新聞 Lam Research 科林研發（那斯達克股票代號：LRCX）宣佈，其創新的乾式光阻（dry resist）技術可直接印刷 28 奈米間距之後段（BEOL）邏輯製程 ...
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科林研發插旗南台灣 瞄準半導體S廊帶 - MSN科林研發為全球晶圓製造設備和服務的領導業者，已深耕台灣半導體產業逾 30 年。目前已於新竹、林口、台中、台南、高雄等台灣多個城市設立據點 ...
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